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真空镀膜领域

霍尔离子源

MY-EHIS
真空镀膜领域
根据工作要求该型号离子源的工作气体为氩气,氮气、氧气或碳氢等多种气体。放电区上部产生热电子,当离子源的阳极施以正电位时,电子在电场作用下向阳极运动,由于磁场的存在,电子绕磁力线以螺旋轨道前进,与工作气体或反应气体的原子发生碰撞使其离化。离子在霍尔电场的作用下被加速获得相应的能量,与部分热电子形成近等离子体,等离子体与基片发生作用达到清洗和辅助镀膜的目的。
2024-09-25 08:28
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产品详情

工作气体或反应气体由阳极底部进入放电区内参与放电,在放电区的上部安装有中和阴极。根据工作要求该型号离子源的工作气体为氩气,氮气、氧气或碳氢等多种气体。放电区上部产生热电子,当离子源的阳极施以正电位时,电子在电场作用下向阳极运动,由于磁场的存在,电子绕磁力线以螺旋轨道前进,与工作气体或反应气体的原子发生碰撞使其离化。离子在霍尔电场的作用下被加速获得相应的能量,与部分热电子形成近等离子体,等离子体与基片发生作用达到清洗和辅助镀膜的目的。

关键技术指标

离子动能:50-300 V
离子束流:>5A   
散射角度:>45
冷却方式:水冷
中和方式:钨丝或空心阴极可选
引出方式:无需栅网
气压:1Pa-100Pa