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CCP等离子体源
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CCP等离子体源
型号:MY-CCPS
CCP等离子体源通过两放电极板产生高频电场,使工作气体全部被电离,形成等离子体。该等离子体源气体利用效率高,等离子体密度高,束流形状可以通过改变电流调节成汇聚发散或者平行。
ICP等离子体源
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ICP等离子体源
型号:MY-ICPS
ICP等离子体源通过高频感应线圈产生高频电磁场,使工作气体全部被电离,形成等离子体。该等离子体源气体利用效率高,等离子体密度高,束流形状可以通过改变电流调节。
射频离子源
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射频离子源
型号:MY-RFIS
ICP离子源通过高频感应线圈产生高频电磁场,使得部分工作气体被电离,形成等离子体。这些等离子体中的电子在高频电磁场的作用下被加速,与中性原子碰撞,导致更多的气体电离,形成等离子体。
阳极层离子源
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阳极层离子源
型号:MY-ALIS
阳极层离子源的主要优点包括结构简单、无污染、离子能量可调节、适用于多种气体以及在真空清洗和镀膜中的应用效果显著。
霍尔离子源
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霍尔离子源
型号:MY-EHIS
根据工作要求该型号离子源的工作气体为氩气,氮气、氧气或碳氢等多种气体。放电区上部产生热电子,当离子源的阳极施以正电位时,电子在电场作用下向阳极运动,由于磁场的存在,电子绕磁力线以螺旋轨道前进,与工作气体或反应气体的原子发生碰撞使其离化。离子在霍尔电场的作用下被加速获得相应的能量,与部分热电子形成近等离子体,等离子体与基片发生作用达到清洗和辅助镀膜的目的。
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