全系离子源/束装备优质供应商

真空镀膜领域

阳极层离子源

MY-ALIS
真空镀膜领域
阳极层离子源的主要优点包括结构简单、无污染、离子能量可调节、适用于多种气体以及在真空清洗和镀膜中的应用效果显著。‌
2024-09-25 08:28
阳极层离子源-p-2.jpg

产品详情

阳极层离子源的主要优点包括结构简单、无污染、离子能量可调节、适用于多种气体以及在真空清洗和镀膜中的应用效果显著。‌此外,阳极层离子源产生的等离子体中性的离子体,基体表面不会产生电荷积累,这有助于减少对基体的损伤。它可以用于真空清洗高分子化合物、玻璃和金属材料,通过去除这些材料表面的各种杂质、水分、氧化物或进行表面改性,从而提高膜层和基体的结合力。在镀膜过程中,阳极层离子源特别适合镀大工件,如建筑玻璃,并且其离子电流较大,适合用于大型工件的镀膜。

关键技术指标

放电电压:500-2000V
离子动能 : 0.5*放电电压
离子束流 :和尺寸参数有关
冷却方式:水冷
形状:圆形或者矩形,根据客户需求定制
中和方式:无需中和
引出方式:无需栅网
气压:1Pa-100Pa