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真空镀膜领域

射频离子源

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真空镀膜领域
‌ICP离子源通过高频感应线圈产生高频电磁场,使得部分工作气体被电离,形成等离子体。这些等离子体中的电子在高频电磁场的作用下被加速,与中性原子碰撞,导致更多的气体电离,形成等离子体。
2024-09-25 08:28
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产品详情

‌ICP离子源通过高频感应线圈产生高频电磁场,使得部分工作气体被电离,形成等离子体。这些等离子体中的电子在高频电磁场的作用下被加速,与中性原子碰撞,导致更多的气体电离,形成等离子体。

关键技术指标

离子动能: 0-10keV
离子束流:0-5A
冷却方式:水冷
源体形状:圆形或者矩形,根据客户需求定制
束流形状:平行/汇聚/发散可选择
中和方式:钨丝、空心阴极或者射频可选
引出方式:三栅网或者两栅网(钨、钼、石墨等)
电源频率:13.56MHz/27.12MHz(自动匹配)
气压:1Pa-100Pa