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真空镀膜领域

CCP等离子体源

MY-CCPS
真空镀膜领域
‌CCP等离子体源通过两放电极板产生高频电场,使工作气体全部被电离,形成等离子体。该等离子体源气体利用效率高,等离子体密度高,束流形状可以通过改变电流调节成汇聚发散或者平行。
2024-09-25 08:28
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产品详情

‌CCP等离子体源通过两放电极板产生高频电场,使工作气体全部被电离,形成等离子体。该等离子体源气体利用效率高,等离子体密度高,束流形状可以通过改变电流调节成汇聚发散或者平行。

关键技术指标

离子动能: 0-2keV
冷却方式:水冷
源体形状:圆形或者矩形,根据客户需求定制
束流形状:平行/汇聚/发散可调节
中和方式:无需中和
引出方式:平面单栅网(不锈钢、钨、钼、石墨等材质)
电源频率:13.56MHz/27.12MHz(自动匹配)
气压:0.01Pa-1000Pa